紫外線(xiàn)探測(cè)器在紫外光刻機(jī)中的應(yīng)用
光刻機(jī)（Mask Aligner） 又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干…
發(fā)布時(shí)間：2022-04-01瀏覽次數(shù)：151
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