国产一级黄片一区二区三区,国产一区二区在线|播放,久久久久久久久久福利,亚洲中文字幕va毛片在线

您值得信賴的自動化測量控制專家
服務(wù)熱線 0771-3908451
新聞中心/ news

咨詢熱線

0771-3908451

紫外線探測器在紫外光刻機中的應(yīng)用


關(guān)鍵詞:曝光,光源,光刻作者:佐威發(fā)布時間:2022-04-01瀏覽次數(shù):160

光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準(zhǔn)曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩膜對準(zhǔn)光刻,所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光來制作一個圖形(工藝);在硅片表面勻膠,然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時“復(fù)制”到硅片上的過程。

光刻機一般根據(jù)操作的簡便性分為三種,手動、半自動、全自動:

A 手動:指的是對準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式,是通過手調(diào)旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來完成對準(zhǔn),對準(zhǔn)精度可想而知不高了;

B 半自動:指的是對準(zhǔn)可以通過電動軸根據(jù)CCD的進行定位調(diào)諧;

C 自動: 指的是 從基板的上載下載,曝光時長和循環(huán)都是通過程序控制,自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。

曝光系統(tǒng)最核心的部件之一是紫外光源, 常見光源分為:

可見光:g線:436nm

紫外光(UV),i線:365nm

深紫外光(DUV),KrF 準(zhǔn)分子激光:248 nm, ArF 準(zhǔn)分子激光:193 nm

極紫外光(EUV),10 ~ 15 nm

對光源系統(tǒng)的要求:

a.有適當(dāng)?shù)牟ㄩL。波長越短,可曝光的特征尺寸就越?。唬鄄ㄩL越短,就表示光刻的刀鋒越鋒利,刻蝕對于精度控制要求越高。]

b.有足夠的能量。能量越大,曝光時間就越短;

c.曝光能量必須均勻地分布在曝光區(qū)。[一般采用光的均勻度或者叫不均勻度 光的平行度等概念來衡量光是否均勻分布]

常用的紫外光光源是高壓弧光燈(高壓汞燈),高壓汞燈有許多尖銳的光譜線,經(jīng)過濾光后使用其中的g線(436 nm)或i線(365 nm)。對于波長更短的深紫外光光源,可以使用準(zhǔn)分子激光。例如KrF準(zhǔn)分子激光(248 nm)、ArF準(zhǔn)分子激光(193 nm)和F2準(zhǔn)分子激光(157 nm)等。曝光系統(tǒng)的功能主要有:平滑衍射效應(yīng)、實現(xiàn)均勻照明、濾光和冷光處理、實現(xiàn)強光照明和光強調(diào)節(jié)等。

光刻機的主要性能指標(biāo)有:支持基片的尺寸范圍,分辨率、對準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產(chǎn)效率等。

分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細(xì)線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。

對準(zhǔn)精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。

曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。

曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域,光源有汞燈,準(zhǔn)分子激光器等。

最后小編推薦一款應(yīng)用在紫外光刻機中的紫外線探測器,由工采網(wǎng)從國外引進的紫外光電二極管 - SG01D-C18, SiC具有極其特別的優(yōu)點,能承受高強度的輻射,對可見光幾乎不敏感,產(chǎn)生的暗電流低,響應(yīng)速度快,這些特性使得SiC成為能夠抑制可見光用來制作半導(dǎo)體紫外線探測器很好的材料。SiC探測器可以長期工作在高達170℃的溫度中,溫度系數(shù)低(<0.1%/K)并且噪音低,能夠有效的監(jiān)測到很低的輻射強度(需配置相應(yīng)的放大器)。



液位傳感器??壓力傳感器??扭矩傳感器??測力傳感器??稱重傳感器??
相關(guān)資訊

電話

134-3472-1620(微信同號)
7*24小時服務(wù)熱線

?

微信

傳感器廠家二維碼掃一掃添加微信
TOP